第十三讲--异质结双极型晶体管

第十三讲——异质结双极型晶体管

l HMET 和HIGFET 的伏安模型 (12讲的继续)

直流模型 ——非速度饱和 ——速度饱和 小信号线性等效电路 高频极限——ωT,ωmax 

l 双极结晶体管(BJT )

单质结BJT 的复习:伏安特性

小信号线性等效电路 高频特性

l 异质结双极型晶体管(HBT )

历史回顾:Shockley 和 Kroemer, 动机 异质结影响的系统回顾:

——发射极 ——基极 ——集电极

总结-将其放在一个器件中 双极结晶体管复习

要理解和对BJT 建模,我们首先要确定:

然后我们还会将表达式重新写成一个对很多应用更方便的形式:

BJT 特性的埃伯斯-莫尔(Ebers-Moll )模型 将问题分解为两个独立的部分,正向和逆向:

对于正向部分,有:

为将上式化为较方便的形式,我们定义发射极和基极缺陷:

BJT 特性的Ebers-Moll 模型(续) 再定义发射极饱和电流,I ES ,和正向α,αF:

由这些定义,我们有:

解基极电流得:

最后,我们注意到通过定义正向β,βF,可以很方便的联系iBF和i CF:

BJT 特性的Ebers-Moll 模型(续) 同样,对逆向部分,我们得到:

其中,我们做了类似的定义:

综合正向和逆向部分,我们得到完全特性公式:

BJT 特性的Ebers-Moll 模型(续) 我们主要在BJT 的正向作用区使用他们,即在V BE >>kT/q和V CE

我们关心的是i B 和i C ,有:

其中我们使用了前面定义的正向β,βF。

BJT 特性的Ebers-Moll 模型(续) 我们对于BJT 设计的目标是得到较大的正向β,βF。为了理解我们如何做到这一点,我们用缺陷,然后用器件参数来表示β:

  

上式中我们假设,δB<<δE,此假设在基极宽度很小的情况下一般成立:  

               

 

从βF的结果中我们马上可以得到BJT

设计的原则: 

Ebers-Moll 正向,V BE >0,VBC =0

设计良好的结构:N DE >>NAB ,w E

BJT 特性(npn 型)

BJT 模型

正向工作区: V BE >0.6V V CE >0.2V (即V BC

————————〉 其他区

截止区: V BE

V CE

用异质结改进BJT :综述 历史回顾: 最早的在BJT 中使用异质结的想法是通过减小发射极缺陷来增加β。这种可能最早由Shockley 在他最初的晶体管专利(1950年)中提出,并且由Herb Kroemer在他1958年的论文中详细阐述。他在1980年的另一篇论文中再次阐述了这个想法,此时研究这个想法的技术已经实现,此时也是异质结双极型晶体管,HBT ,出现的时候。 要研究BJT 中的异质结的全部潜能,我们要更宽地研究这个问题。 双极性晶体管主要有三部分,我们要分别研究这三部分:

——发射极 ——基极 ——集电极

发射极问题: 在单质结晶体管中,基极的支线电导受掺杂级和基极宽度的限制。可以通过提高基极的掺杂级来提高它,但这会对发射极缺陷有负面的影响。 通过一个宽能带隙发射器层,另一个耦合系数被引入发射极缺陷,这减少了对基极进行重掺杂的需要。

在单质结中:

在异质结中:

新项:HB=空穴势垒 EB=电子势垒 注意:我们在第四讲关于异质结的

讨论中已经涉及到了这个问题。

发射极问题:空穴势垒vs 电子势垒 势垒的大小取决于在其中一个能带中是否存在一个尖突起(通常在导带中)

注意:在N-p+结中,所有的带弯曲都在N 边。

如果尖突起是一个势垒:HB-EB ≈ΔE V

发射极问题:空穴势垒vs 电子势垒 如果尖突起薄到成为一个隧道,或者通过对质结中的成份进行梯度处理而得到消除,那么HB-EB 可以显著增大:

如果尖突起不是一个势垒:HB-EB ≈ΔE C +ΔE V =ΔE g 注意:梯度处理不需要重掺杂就可以去除尖突起

发射极问题:基极的掺杂剂扩散 异质结晶体管中的基极通常是重掺杂的,而发射极的掺杂程度较轻。这种情况下,掺杂剂很容易扩散进入发射极并对其p 残杂。这是很有害的:

又成了单质结了!

一种解决方法是引入一个薄的,未掺杂的宽能带隙隔离层。

发射极问题:利用势垒以有利于冲击注入 冲击注入的概念是,跨越尖突起的载流子会以很高的初速度进入基极:

这会减小基极的通过时间。 问题时如果载流子有过大的初能量,他们会分散进入更高的能带并减速。

基极问题:减小基极电阻 减小基极通过时间 基极电阻: 掺杂程度很重 基极通过时间 使基极很薄 梯度处理基极,建

立一个作用于电子 的电场

注意:如果基极太薄,要

对其成分进行梯度 处理会很困难。

冲击注入的一个问题是,如果载流子从电场获得过大的初能量,他们会分散进入更高的能带并减速。

集电极问题: 基极宽度调制:由于重基极掺杂,不需要考虑 雪崩击穿:InGaAs 基极和集电极的问题 解决方法:宽能带隙集电极 导通/饱和截止:在单质结集电极很重要 解决方法:宽能带隙集电极

发射极问题(续):宽能带隙集电极的注意点 如果接触面上有一个导带尖突起,宽能带隙集电极会出现问题。集电极在低逆向偏置下不工作!!

解决方法是梯度处理基极-集电极接触面

HBT 工艺:一个典型截面 我们将在14讲中详细研究工艺和电路。

第十三讲——异质结双极型晶体管

l HMET 和HIGFET 的伏安模型 (12讲的继续)

直流模型 ——非速度饱和 ——速度饱和 小信号线性等效电路 高频极限——ωT,ωmax 

l 双极结晶体管(BJT )

单质结BJT 的复习:伏安特性

小信号线性等效电路 高频特性

l 异质结双极型晶体管(HBT )

历史回顾:Shockley 和 Kroemer, 动机 异质结影响的系统回顾:

——发射极 ——基极 ——集电极

总结-将其放在一个器件中 双极结晶体管复习

要理解和对BJT 建模,我们首先要确定:

然后我们还会将表达式重新写成一个对很多应用更方便的形式:

BJT 特性的埃伯斯-莫尔(Ebers-Moll )模型 将问题分解为两个独立的部分,正向和逆向:

对于正向部分,有:

为将上式化为较方便的形式,我们定义发射极和基极缺陷:

BJT 特性的Ebers-Moll 模型(续) 再定义发射极饱和电流,I ES ,和正向α,αF:

由这些定义,我们有:

解基极电流得:

最后,我们注意到通过定义正向β,βF,可以很方便的联系iBF和i CF:

BJT 特性的Ebers-Moll 模型(续) 同样,对逆向部分,我们得到:

其中,我们做了类似的定义:

综合正向和逆向部分,我们得到完全特性公式:

BJT 特性的Ebers-Moll 模型(续) 我们主要在BJT 的正向作用区使用他们,即在V BE >>kT/q和V CE

我们关心的是i B 和i C ,有:

其中我们使用了前面定义的正向β,βF。

BJT 特性的Ebers-Moll 模型(续) 我们对于BJT 设计的目标是得到较大的正向β,βF。为了理解我们如何做到这一点,我们用缺陷,然后用器件参数来表示β:

  

上式中我们假设,δB<<δE,此假设在基极宽度很小的情况下一般成立:  

               

 

从βF的结果中我们马上可以得到BJT

设计的原则: 

Ebers-Moll 正向,V BE >0,VBC =0

设计良好的结构:N DE >>NAB ,w E

BJT 特性(npn 型)

BJT 模型

正向工作区: V BE >0.6V V CE >0.2V (即V BC

————————〉 其他区

截止区: V BE

V CE

用异质结改进BJT :综述 历史回顾: 最早的在BJT 中使用异质结的想法是通过减小发射极缺陷来增加β。这种可能最早由Shockley 在他最初的晶体管专利(1950年)中提出,并且由Herb Kroemer在他1958年的论文中详细阐述。他在1980年的另一篇论文中再次阐述了这个想法,此时研究这个想法的技术已经实现,此时也是异质结双极型晶体管,HBT ,出现的时候。 要研究BJT 中的异质结的全部潜能,我们要更宽地研究这个问题。 双极性晶体管主要有三部分,我们要分别研究这三部分:

——发射极 ——基极 ——集电极

发射极问题: 在单质结晶体管中,基极的支线电导受掺杂级和基极宽度的限制。可以通过提高基极的掺杂级来提高它,但这会对发射极缺陷有负面的影响。 通过一个宽能带隙发射器层,另一个耦合系数被引入发射极缺陷,这减少了对基极进行重掺杂的需要。

在单质结中:

在异质结中:

新项:HB=空穴势垒 EB=电子势垒 注意:我们在第四讲关于异质结的

讨论中已经涉及到了这个问题。

发射极问题:空穴势垒vs 电子势垒 势垒的大小取决于在其中一个能带中是否存在一个尖突起(通常在导带中)

注意:在N-p+结中,所有的带弯曲都在N 边。

如果尖突起是一个势垒:HB-EB ≈ΔE V

发射极问题:空穴势垒vs 电子势垒 如果尖突起薄到成为一个隧道,或者通过对质结中的成份进行梯度处理而得到消除,那么HB-EB 可以显著增大:

如果尖突起不是一个势垒:HB-EB ≈ΔE C +ΔE V =ΔE g 注意:梯度处理不需要重掺杂就可以去除尖突起

发射极问题:基极的掺杂剂扩散 异质结晶体管中的基极通常是重掺杂的,而发射极的掺杂程度较轻。这种情况下,掺杂剂很容易扩散进入发射极并对其p 残杂。这是很有害的:

又成了单质结了!

一种解决方法是引入一个薄的,未掺杂的宽能带隙隔离层。

发射极问题:利用势垒以有利于冲击注入 冲击注入的概念是,跨越尖突起的载流子会以很高的初速度进入基极:

这会减小基极的通过时间。 问题时如果载流子有过大的初能量,他们会分散进入更高的能带并减速。

基极问题:减小基极电阻 减小基极通过时间 基极电阻: 掺杂程度很重 基极通过时间 使基极很薄 梯度处理基极,建

立一个作用于电子 的电场

注意:如果基极太薄,要

对其成分进行梯度 处理会很困难。

冲击注入的一个问题是,如果载流子从电场获得过大的初能量,他们会分散进入更高的能带并减速。

集电极问题: 基极宽度调制:由于重基极掺杂,不需要考虑 雪崩击穿:InGaAs 基极和集电极的问题 解决方法:宽能带隙集电极 导通/饱和截止:在单质结集电极很重要 解决方法:宽能带隙集电极

发射极问题(续):宽能带隙集电极的注意点 如果接触面上有一个导带尖突起,宽能带隙集电极会出现问题。集电极在低逆向偏置下不工作!!

解决方法是梯度处理基极-集电极接触面

HBT 工艺:一个典型截面 我们将在14讲中详细研究工艺和电路。


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